精度|就算送给中国图纸,我们也造不出光刻机?事实证明大话说早了

我国工业实力强大,唯一的遗憾是在芯片领域还存在短板。西方国家公然嘲讽,就算把图纸送给中国,也造不出光刻机。事实真的如此吗?
如今,我国已经建立起全球最完善的工业体系,覆盖200多个工业门类,能自主解决99%以上的工业配件需求,“中国制造”已经成为我国新的名牌,走向了全球。遗憾的是,我国工业尚存在短板,始终在芯片领域受制于其他国家。

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由于缺少研制光刻机方面的经验,过去很长一段时间我国都严重依赖国外芯片,一旦其他国家采取措施,我国高科技产业都将面临被卡脖子的局面。但是,研制光刻机并不容易,我国曾派出专家团队向西方国家学习,没想到西方国家不仅没有给我国提供帮助,反而对我国进行了嘲讽,扬言就算把图纸送给中国,也不可能造出光刻机!面对西方国家的态度,我国选择用实力证明自己。

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据悉,我国上海微电子企业早就研制出了国产光刻机,虽然精度远远比不上世界顶尖水平,却让我国实现了从无到有的突破。值得一提的是,近几年我国国产芯片发展迅猛,成功研制出了高能同步辐射光源设备和透镜镀膜装置,技术处于世界顶尖水准。据悉由中科院研发的“高能同步辐射光源设备”可以适用于航天航空以及半导体等高端领域,同时这也是全球最亮的第四代同步辐射光源之一,高强度的光源可以有效降低芯片制造过程中,对于光刻机设备的精度要求,给国产芯片带来了全新的希望。

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同时,中科科仪研发的纳米聚焦镜镀膜装置也实现了技术突破。透镜镀膜装置的层制备工艺可以满足大多数的物理镜头,其中就包括了EUV光刻机当中的核心部件“光学镜头”,该技术是国产光刻机最重要、同时也是最后的拼图。中科科仪所研发的镀膜设备,已经能够将膜厚的精度很好地控制在0.1nm以内,与国际先进水平相差无几,也足以达到制备光刻机光学镜头的条件。更加关键的是,整个过程完全由我们自主完成。

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【 精度|就算送给中国图纸,我们也造不出光刻机?事实证明大话说早了】光刻机作为制造芯片的核心设备,集成了全球最顶尖的科技,没有国家能独立生产,只有荷兰能够组装出顶尖的EUV光刻机。在我科研人员的不懈努力下,制造高端芯片已经成为可能,相信用不了多久,我们就能打破西方国家在芯片领域的垄断,我们也将证明西方国家的大话说早了。