光刻机|行动开始，国产光刻机的新消息传来！外媒：ASML错了阿斯麦尔|芯片

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光刻机最先进的厂商是ASML ，因为ASML有两大法宝，分别是DUV光刻机EUV光刻机，尤其是EUV光刻机，其是生产制造7nm以芯片的最优解。
所以国内厂商早就着手开始研发、购买先进的光刻机，但由于芯片等规则影响， ASML先进的EUV光刻机无法出口到国内，国内厂商下单4年都没有到货。
随后，芯片等规则被再次被修改，台积电、高通等芯片企业不能再自由出货，导致华为自研芯片的生产制造受到了影响。

于是，国内厂商更加将光刻机技术的研发工作，目的就是尽管掌握先进光刻机的生产制造技术。
例如，华为任正非带队走访了中科院，随后光刻机相关技术被列入优先突破的难题；任正非还走访了国内多所高校，目的就是留住更多芯片等方面的人才。
还有就是，华为旗下的哈勃投资也多次投资国内芯片相关的产业链，像光源技术等。
面对厂商如火如荼投入到先进光刻机的研发当中，于是， ASML方面就明确表示，给中国厂商图纸也造不出来先进的光刻机。

ASML之所以如此表态，是因为先进光刻机集合全球40多个国家的原材料和技术，像美国的光源技术、德国的镜头技术、英国的真空技术，等等。
行动开始了，国产光刻机的新消息传来
虽然先进光刻机的研发制造难度大，但这依旧挡不住国内厂商前进的步伐。如今，国产光刻机的新消息传来，可以说是行动开始了。
最新的消息称，国望光学光刻机曝光系统生产基地项目正式公布了，该项目将由北京国望光学科技有限公司和长春国科精密联合建设经营。

要知道，这两家都是国内数一数二的超精密光学产业的研发制造企业。
这两家企业联合打造国望光学光刻机曝光系统生产基地项目，这意味在国产IC制造投影光刻机曝光光学系统、高端精密光学仪器与装备的批量生产供货能力正式形成。
再简单一点说就是，光刻机最主要的技术是光源技术和光学仪器，而该基地的建设，就意味着国产先进光刻机的到来更近了。
对此，就有外媒表示ASML错了，因为国内厂商在光刻机技术方面正在逐渐突破，毕竟，盾构机、蚀刻机等先进设备已被国内厂商突破。

ASML说给国内厂商图纸，国内厂商也无法研发制造出来先进的光刻机，这是错误的说法。
另外，停止向国内厂商出口先进的光刻机等设备，是ASML另一个错误。
【光刻机|行动开始，国产光刻机的新消息传来！外媒：ASML错了】因为停止向国口出货先进的光刻机设备，不会阻挠国内芯片产业发发展，反而，却会加速国内厂商在先进光刻机方面实现突破。
要知道，国产光刻机设备已经占领了国内八成市场，国产封装光刻机占领了全球四成市场，而国产光刻机曝光系统正式筹备建设，更是证明了国内厂商已经实现了突破。

也就是说，不久的将来，国产先进光刻机下线后， ASML在国内以及国际市场都会被国产光刻机所挤压。
其实， ASML的做法是错的这一点， ASML总裁之前也相当于承认。